客戶咨詢熱線：
18922517093
<tbody id="kp4rg"></tbody>
日本chino高發射平面黑體爐IR-R40 IR-R40是與工業技術綜合研究所（AIST）共同開發的平面黑體爐，可在紅外長波長波段實現高發射率。
更新日期：2023-08-10 訪問量：97
日本chino超高溫定點黑體爐IR-R80 IR-R80是使用國家工業科學技術綜合研究所開發的金屬碳共晶點的超高溫定點黑體爐，實現了輻射溫度計定點校準的高溫（高達1085°C），這在以前只能達到銅點（2474°C）時實現。
更新日期：2023-08-10 訪問量：96
日本chino小型定點黑體爐IR-R0A IR-R0A是國標級定點黑體爐。 可提供內部裝有點~銅坩堝組的定點裝置，并且可以輕松更換。
更新日期：2023-08-10 訪問量：68
日本chino高溫比較黑體爐IR-R27 對于低溫，鉑電阻溫度計檢測器（單獨出售）用作標準溫度計進行比較校準。 對于中等溫度，使用0.90μm標準輻射溫度計（單獨出售）進行比較校準。
更新日期：2023-08-10 訪問量：71
日本chino中溫標準黑體爐IR-R26 低溫標準黑體爐和中溫高溫比較黑體爐是與計量研究所聯合開發的用于校準輻射溫度計的大口徑黑體爐。
更新日期：2023-08-10 訪問量：66
日本chino低溫標準黑體爐IR-R24 低溫標準黑體爐和中溫高溫比較黑體爐是與計量研究所聯合開發的用于校準輻射溫度計的大口徑黑體爐。
更新日期：2023-08-10 訪問量：63
日本chino高發射溫度可變黑體爐IR-R20 這是與工業技術綜合研究所（國家計量標準研究所（NMIJ）共同研究開發的用于比較和校準輻射溫度計的溫度可變黑體爐。
更新日期：2023-08-10 訪問量：68
納米PVD-S10Athermocera連續薄膜沉積濺射設備
thermocera連續薄膜沉積濺射設備 高性能RF/DC磁控濺射裝置 連續多層膜，雙源同步膜沉積，APC自動壓力控制
更新日期：2023-03-24 訪問量：312
納米CVD-8G/8Nthermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器
thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器 CVD法是一種穩定的技術，已經建立了多種用途，它是未來大規模合成石墨烯和碳納米管的最現實的方法，因此我們在這臺機器中采用了CVD方法。 制造商Moorfield與英國國家研究所合作，多次驗證了這種薄膜沉積實驗裝置。
更新日期：2023-03-24 訪問量：305
thermocera熱CVD設備納米爐BWS-NANO-2.5
thermocera熱CVD設備納米爐BWS-NANO-2.5 【熱水熱CVD設備】小型高性能CVD設備是基礎研究的理想選擇
更新日期：2023-03-24 訪問量：282
thermocera手動升降式立式實驗爐TVF-110 適用于從小樣品到3英寸晶圓的小基板 基座 手動升降式立式實驗爐用于 基礎實驗的低成本立式爐 非常適合大學和企業實驗室的基礎實驗
更新日期：2023-03-24 訪問量：246
thermocera高性能超高溫實驗反應堆TCF-C500 體積小，節省空間，節能！ 用于研發的高性能超高溫實驗反應堆 它支持新材料和新材料的開發，以及半導體、電子元件、燃料電池和太陽電池等先進基礎技術開發部門的各種應用。
更新日期：2023-03-24 訪問量：250
thermocera多氣氛晶圓退火爐minilab-WCF 最高溫度 2000°C確保安全性和可操作性 僅晶圓退火 從超高溫多氣氛爐的新材料和材料的開發，半導體和電子元件的研發等，可廣泛用于小規模生產應用。
更新日期：2023-03-24 訪問量：248
thermocera多氣氛實驗反應釜爐minilab-CF 超高溫多氣氛實驗爐 最高2900°C 可在各種燒成條件和使用環境下使用的超高溫多氣氛實驗爐。
更新日期：2023-03-24 訪問量：235
日本thermocera實驗用多氣氛爐TE系列 這是一款臺式超高溫多氣氛實驗爐，可處理氮氣、氧氣、氦氣、氬氣、氫氣等各種氣氛。
更新日期：2023-03-24 訪問量：233
<tbody id="kp4rg"></tbody>